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Efecto del pegamento, tiourea y cloruro en la reducción electroquímica en soluciones de CuSO4-H2SO4

Autores: Nevárez-Llamas, Érika D.; Araneda-Hernández, Eugenia A.; Parra-Sánchez, Víctor R.; Villagrán-Guerra, Eduardo A.

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2023

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Acceso abierto

Artículo científico


Categoría

Ciencias de los Materiales

Subcategoría

Materiales estructurales

Palabras clave

Pegamento
Tiourea
Cloruro
Parámetros cinéticos
Aproximación de Tafel
Electrorefinación

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 6

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Se estudió el efecto de la cola, la tiourea y el cloruro en la cinética de la reducción de cobre en soluciones de CuSO4-H2SO4 de composición de cobre y temperaturas similares a las utilizadas en las plantas de electrorefinación de cobre. El estudio cinético se llevó a cabo determinando los parámetros cinéticos i0 y beta bajo el control de activación de la aproximación de Tafel, que se aplica a las curvas de polarización obtenidas mediante voltametría lineal. Los resultados muestran que la incorporación de cola y tiourea disminuye la densidad de corriente de intercambio, mientras que el cloruro no afecta significativamente los parámetros cinéticos. Los datos sobre la fracción de la superficie cubierta por cola y tiourea se ajustaron a la isoterma de adsorción de Temkin, lo que indica que el mecanismo de acción durante la reducción de cobre a bajos sobrepotenciales es la adsorción de estos aditivos en la superficie del electrodo. La adsorción de aditivos reduce el área catódica disponible para la adsorción de Cu2+ y la difusión lateral de átomos de Cu para continuar el proceso de reducción y el crecimiento del depósito cristalino. El estudio cinético se complementó con un análisis exhaustivo del efecto de los aditivos en las características morfológicas y texturales de los depósitos. Los resultados de este trabajo contribuyen a la comprensión de los mecanismos de los principales aditivos utilizados durante el proceso de electrorefinación de cobre.

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