En este estudio, se utiliza un sistema de pirólisis por spray de bajo costo y baja sofisticación construido por estudiantes de pregrado para cultivar películas delgadas de óxido de zinc dopado con aluminio (ZnO:Al). El sistema de pirólisis fue capaz de cultivar ZnO:Al policristalino con una estructura de wurtzita hexagonal orientada preferentemente en el eje c, correspondiente a una estructura de wurtzita hexagonal, y una excepcional reproducibilidad. Las películas de ZnO:Al se estudiaron como óxidos conductores transparentes (TCOs). Nuestros mejores TCO de ZnO:Al presentan una transmitancia promedio del 80% en el rango visible del espectro electromagnético, una resistencia de hoja de 32 Ohm/ y un bandgap óptico de 3.38 eV. Después de una extensa caracterización óptica y nanoestructural, determinamos que los TCO utilizados son solo un 4% menos eficientes que los mejores TCO de ZnO:Al reportados en la literatura. Esto último, sin descuidar que los TCO de ZnO:Al de la literatura han sido cultivados mediante técnicas de deposición sofisticadas como la pulverización catódica por magnetrón. En consecuencia, estimamos que nuestros TCO de ZnO:Al pueden considerarse una alternativa auténtica a los óxidos de zinc dopados con aluminio o los TCO de óxido de indio y estaño de alto rendimiento cultivados a través de equipos más sofisticados.