Los iones de fluoruro, que interfieren con la formación de óxido en el zirconio, han sido pasados por alto hasta hace poco. El efecto de los iones de fluoruro en la formación y disolución de óxidos en el zirconio fue investigado en este estudio. Se realizó una caracterización cuantitativa detallada de las películas de óxido formadas en Zr702 sumergido en una solución de ácido nítrico fluorurado utilizando espectroscopia de fotoelectrones de rayos X, microscopía electrónica de transmisión de alta resolución y un microscopio electrónico de transmisión de campo oscuro de ángulo alto representativo. Se discutió el rendimiento de corrosión en una solución de ácido nítrico fluorurado. Los resultados revelan que el grosor de las películas de óxido sumergidas en la solución de ácido nítrico fluorurado estaba entre 42-48 nm, lo que es mucho más delgado que el de la capa de óxido (~98.85 nm de grosor) en la solución de HNO3 libre de F-. Se identificó que la película de óxido era un clúster nanocristalino, compuesto por capas externas de HfO2 y HfF4, capas sub-externas de ZrO2 y ZrF4, y una capa interna de Zr (F, O)3.6. Esta penetración de especies de fluoruro a través de las películas de óxido indicó que los iones de fluoruro son responsables de la disolución de la película de óxido de Zr702.