Resumen

Se depositaron con éxito películas finas de xantato de cobalto (CXTF) mediante deposición en baño químico sobre sustratos de vidrio amorfo, así como sobre silicio p y n, óxido de indio y estaño y poli(metacrilato de metilo). La estructura de las películas se analizó mediante espectro infrarrojo lejano (FIR), espectro infrarrojo medio (MIR), resonancia magnética nuclear (RMN) y microscopía electrónica de barrido (SEM). Estas películas se investigaron desde el punto de vista de sus propiedades estructurales, ópticas y eléctricas. Las propiedades eléctricas se midieron mediante el método de cuatro puntos, mientras que las propiedades ópticas se investigaron mediante la técnica espectroscópica UV-VIS. La distribución uniforme de los granos se observó claramente en las fotografías tomadas con el microscopio electrónico de barrido (SEM). La transmitancia fue de aproximadamente el 70-80% (4 horas, 50°C). La separación de banda óptica del CXTF se estimó gráficamente en 3,99-4,02 eV. La resistividad de las películas se calculó en 22,47-75,91 Ω-cm en vidrio comercial dependiendo del espesor de la película y 44,90-73,10 Ω -cm en los otros sustratos. Se ha observado que la resistividad relativa cambiaba con el espesor de la película. Los espectros MIR y FIR de las películas concordaban con los análogos de la bibliografía. Los picos esperados del xantato de cobalto se observaron en el análisis de RMN sobre vidrio. Las películas se sumergieron en cloroformo como disolvente orgánico y se analizaron por RMN.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanoestructuras Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanostructures Nanomaterials
• Palabras claves:películas, espesor de la película, técnica visoespectroscópica, sustratos de vidrio amorfo, deposición en baño químico, punto de propiedades eléctricas, óxido de indio y estaño, resonancia magnética nuclear, brecha de banda óptica, películas delgadas de xantato
• Keywords:films, film thickness, vis spectroscopic technique, amorphous glass substrates, chemical bath deposition, electrical properties point, indium tin oxide, nuclear magnetic resonance, optical band gap, xanthate thin films