Se deposita óxido de aluminio anódico (AAO) poroso sobre un sustrato de óxido de indio (ITO)/vidrio dopado con estaño de 5 cm × 5 cm, y la estructura AAO/ITO/vidrio así formada se utiliza para reducir la cantidad de Al sin reaccionar dentro de la plantilla AAO, reduciendo así la transmitancia de la estructura AAO/vidrio. La mejora de la transmitancia se consigue modulando el diámetro de los poros y variando la polarización aplicada. El AAO propuesto puede utilizarse con un sesgo aplicado elevado (hasta 120 V) para mejorar la uniformidad de la densidad de corriente. Tras el tratamiento de ensanchamiento de poros y el recocido posterior al tratamiento, también se investigaron las morfologías y la transmitancia de la estructura AAO/ITO/vidrio.
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