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Electrical Conductivity of Films Formed by Few-Layer Graphene Structures Obtained by Plasma-Assisted Electrochemical Exfoliation of GraphiteConductividad eléctrica de películas formadas por estructuras de grafeno de pocas capas obtenidas por exfoliación electroquímica del grafito asistida por plasma

Resumen

Se han medido las características corriente-voltaje de estructuras de grafeno de pocas capas (FLGS) obtenidas por exfoliación electroquímica asistida por plasma de grafito en solución de Na2SO4. Se demuestra que las FLGS poseen conductividad electrónica, lo que indica la funcionalización predominante de los bordes de los planos de grafeno y la conservación de la estructura de los planos basales en las nanoestructuras obtenidas como en el grafito fuente. Se estudió el efecto de la humedad en la conductividad de las películas de FLGS. Se observó que la resistencia de las películas aumentaba con el incremento de la humedad relativa del ambiente debido al apantallamiento de los copos de FLGS por una película de agua. Se analizó el efecto de diferentes disolventes en las características de corriente-tensión de los FLGS. La conductividad de las películas disminuyó significativamente en vapores de disolventes próticos polares, mientras que hubo un efecto menor de los disolventes apróticos no polares sobre la conductividad de las películas FLGS.

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