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Artículo

High-Field Growth of Semiconducting Anodic Oxide Films on Metal Surfaces for Photocatalytic ApplicationCrecimiento de alto campo de películas semiconductoras de óxido anódico sobre superficies metálicas para aplicaciones fotocatalíticas

Resumen

Este trabajo resume los avances logrados en los aspectos físico-químicos del crecimiento de óxidos anódicos en condiciones de alto campo para la síntesis de películas sólidas delgadas semiconductoras y su implementación como materiales fotocatalíticos. Se discuten el alcance y los mecanismos de crecimiento de los óxidos anódicos, describiendo el desarrollo de modelos cinéticos y las correlaciones entre la teoría y los datos cinéticos, que conducen a información fundamental para caracterizar los procesos primarios que ocurren durante la anodización de metales valvulares bajo altos campos. Se destacan y discuten brevemente las principales características relacionadas con el ampliamente utilizado autoensamblaje de nanoestructuras por anodización de metales de válvula. A continuación se exponen consideraciones generales sobre la fotocatálisis heterogénea en estos materiales funcionales, teniendo en cuenta la cinética de los procesos catalíticos heterogéneos implicados y el rendimiento fotoelectroquímico global. El elevado control de las características de los materiales obtenidos con el método descrito, combinado con la posibilidad de asistir electroquímicamente a la fotocatálisis, permite la aplicación de esta tecnología al tratamiento de aguas residuales, conversión de energía y campos relacionados.

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  • Idioma:Inglés
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Información del documento

  • Titulo:High-Field Growth of Semiconducting Anodic Oxide Films on Metal Surfaces for Photocatalytic Application
  • Autor:Ronald, Vargas; David, Carvajal; Brunella, Galavis; Alberto, Maimone; Lorean, Madriz; Benjamín R., Scharifker
  • Tipo:Artículo
  • Año:2019
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi
  • Materias:Energía solar Fotoquímica Nanoestructuras Energía limpia Efecto fotoeléctrico
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