Se ha investigado el proceso de precipitación de nanopartículas de oro (AuNP) sobre la superficie de silicio (Si) por sustitución galvánica (GR) en una solución de dimetilsulfóxido (DMSO) en función de la concentración de H[AuCl4], la temperatura y la duración. Se establece que con un aumento de la concentración de iones [AuCl4]- (de 2 a 8 mM de H[AuCl4]), se incrementa tanto el tamaño de las AuNPs como su densidad de cobertura superficial. Se demuestra que un aumento de la temperatura hace que el tamaño de las AuNPs aumente de 40 a 80 nm a 40°C a 80-120 y 120-160 nm a 50 y 60°C, respectivamente. A medida que aumenta la duración del proceso de RG, hay una tendencia al crecimiento del tamaño de las partículas. En las condiciones de deposición estudiadas, el medio disolvente aprótico orgánico contribuye a la formación de AuNPs esféricas con relleno de sustrato 2D. Se establece que las AuNPs depositadas sobre la superficie de silicio catalizan el proceso de grabado químico asistido por metales (MacEtch), lo que permite obtener nanoestructuras de Si en forma de matrices de nanohilos.
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