En el presente trabajo se utiliza la espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) para estudiar los recubrimientos anódicos sellados y no sellados obtenidos sobre Al puro y sobre aleaciones de Al-Cu, Al-Mg-Si y Al-Mg. En general, se observa que el proceso de sellado produce un aumento significativo de la relación O/Al en los recubrimientos anódicos. Este aumento es más considerable con las aleaciones Al-Cu y Al-Mg que con el Al puro y la aleación Al-Mg-Si, quizás debido a la mayor porosidad de los recubrimientos obtenidos en las primeras. Se intenta establecer posibles relaciones entre las características de la película anódica y las heterogeneidades superficiales, que también actúan en la fase previa al anodizado. Según los resultados de este trabajo, estas heterogeneidades afectan al grado de disolución del sustrato metálico durante la operación de anodizado.
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