Resumen

Las películas delgadas de molibdeno (Mo) se utilizan ampliamente como contacto posterior para células solares basadas en CIGS. En este trabajo se determinan los ajustes óptimos de los parámetros de pulverización catódica para una película delgada de Mo preparada sobre sustratos de vidrio sodocálcico, utilizando pulverización catódica por magnetrón de corriente continua (CC), con un blanco metálico de Mo, en un entorno de gas argón. Se utiliza un método Taguchi con una matriz ortogonal L9, la relación señal-ruido y un análisis de varianzas para determinar las características de rendimiento de la operación de recubrimiento. Los principales parámetros de pulverización catódica, como la presión de trabajo (mTorr), la potencia de corriente continua (W) y la temperatura del sustrato (°C), se optimizan con respecto a las características estructurales, la morfología de la superficie y las propiedades eléctricas de las películas de Mo. Se realiza un ensayo con cinta adhesiva en cada película para determinar la fuerza de adhesión de las películas. Los resultados experimentales muestran que la presión de trabajo tiene el efecto dominante sobre la resistividad eléctrica y la reflectancia. La intensidad del pico principal (110) de la película de Mo aumenta y la anchura máxima a la mitad disminuye gradualmente a medida que aumenta la potencia de pulverización catódica. Además, la aplicación de una bicapa de Mo demuestra una buena adherencia y una baja resistividad.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Optoelectrónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Optoelectronics
• Palabras claves:presión de trabajo, sustratos de vidrio sodocálcico, aumentos de película de mo, ensayo de cinta adhesiva, entorno de gas argón, principales parámetros de sputtering, blanco de mo metálico, bicapa de mo, películas de mo, método taguchi
• Keywords:working pressure, soda lime glass substrates, mo film increases, adhesive tape test, argon gas environment, main sputtering parameters, metal mo target, mo bilayer, mo films, taguchi method