Las películas de carbono-níquel se cultivaron mediante cosputtering por magnetrón de radiofrecuencia sobre sustratos de vidrio. Las películas se depositaron con diferentes tiempos de deposición, de 50 a 600 segundos, a temperatura ambiente. Se observó que hasta 180 segundos el sputtering se produce en modo de mayor contenido metálico y en mayores de 180 segundos se produce en modo de mayor contenido no metálico. Se demuestra que las propiedades estructurales y morfológicas de las películas de carbono-níquel están fuertemente influenciadas por este comportamiento.
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