La configuración de enlace atómico de las películas de diamante ultrananocristalino (UNCD)/carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) preparadas mediante ablación por láser pulsado de grafito en atmósfera de hidrógeno se examinó mediante espectroscopia de estructura fina de absorción de rayos X de borde cercano. Los espectros medidos se descompusieron con espectros de componentes simples y se analizaron en detalle. En comparación con las películas a-C:H depositadas a temperatura ambiente del sustrato, las películas UNCD/a-C:H y de carbono amorfo no hidrogenado (a-C) depositadas a una temperatura del sustrato de 550∘C mostraron picos π∗ y σ∗C≡C más intensos. A temperaturas de sustrato elevadas, la formación de los enlaces π∗ y σ∗C≡C es mayor, mientras que la formación de los enlaces σ∗C-H y σ∗C-C es menor. La película UNCD/a-C:H mostró un pico σ∗C-C mayor que la película a-C depositada a la misma temperatura de sustrato elevada en vacío. Creemos que el intenso pico σ∗C-C es evidentemente responsable de la existencia de cristalitos UNCD en la película.
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