Resumen

Hemos estudiado las propiedades ópticas de las películas de silicio nanocristalino (nc-Si) depositadas mediante deposición química en fase vapor potenciada por plasma (PECVD) sobre estructura de aluminio poroso utilizando, respectivamente, la Espectroscopía de Desviación Fototérmica (PDS) y la Fotoluminiscencia (PL). El objetivo de este trabajo es investigar la influencia de la corriente de anodización sobre las propiedades ópticas de las capas porosas de aluminio-silicio (PASL). La caracterización morfológica estudiada mediante la técnica de microscopía de fuerza atómica (AFM) ha mostrado que el tamaño de grano del (nc-Si) aumenta con la corriente de anodización. Sin embargo, se observó un desplazamiento de la brecha de energía.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:corriente de anodización, propiedades ópticas, deposición química en fase vapor potenciada por plasma, capas porosas de aluminio silicio, espectroscopia de deflexión fototérmica, microscopia de fuerza atómica, desplazamiento de la brecha de banda, estructura porosa del aluminio, brecha de energía, tamaño de grano
• Keywords:anodisation current, optical properties, plasma enhancement chemical vapor deposition, porous aluminum silicon layers, photothermal deflection spectroscopy, atomic force microscopy, band gap shift, porous aluminum structure, energy gap, grain size