La fotoelectrolisis del agua para producir hidrógeno y oxígeno utilizando luz visible tiene un enorme potencial para la captación de energía solar si se pueden desarrollar materiales fotoelectrodos adecuados. Pocos de los materiales con una brecha de banda adecuada para la activación por luz visible tienen los potenciales de borde de banda o la estabilidad fotoquímica necesarios para ser candidatos idóneos. El óxido de tungsteno (Ebg 2,8 eV) es un buen candidato con absorción hasta λ≈440 nm y estabilidad fotoquímica conocida. Se prepararon películas delgadas de óxido de tungsteno utilizando una ruta electrolítica a partir de precursores de peroxo-tungsteno. Las películas finas de óxido de wolframio se caracterizaron mediante FESEM, espectroscopia de electrones Auger y métodos fotoelectroquímicos. La magnitud de la respuesta de fotocorriente de las películas bajo irradiación solar simulada mostró una dependencia del precursor utilizado en la preparación de la película, con una respuesta comparativamente menor para las muestras que contenían impurezas. El espectro de respuesta a la fotocorriente de las películas de óxido de wolframio fue más favorable que el registrado para las películas delgadas de dióxido de titanio (TiO2). La respuesta de fotocorriente del WO3 fue de magnitud equivalente, pero desplazada hacia la región visible del espectro, en comparación con la del TiO2.
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