La fotovoltaica de tercera generación tiene como objetivo lograr la construcción de dispositivos de alta eficiencia usando métodos de deposición de segunda generación basados en películas delgadas. Se pretende hacerlo mediante un pequeño incremento en los costos de superficie para reducir de esta forma el costo por pico Watt (esta métrica es la más empleada en la industria fotovoltaica); asimismo, se usarían materiales no tóxicos y abundantes en la naturaleza. De esta forma, estas tecnologías de tercera generación serán compatibles con la implementación de la fotovoltaica a gran escala.
Este enfoque difiere con la fabricación de dispositivos de primera generación caracterizados por su alta calidad y bajo número de defectos que superarían el límite Shockley-Queisser de banda prohibida simple (simple bandgap) que limita sus eficiencias entre 31% a 41%, dependiendo de la concentración. Lo anterior requiere de la elaboración de dispositivos de umbral de energía múltiple, los cuales pueden obtenerse a partir de varios enfoques.
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