Resumen

El cloruro de tetrakis[(benzo[d]tiazol-2-iltio) ftalocianinato] galio(III) (1) y el cloruro de tetrakis[(benzo[d]tiazol-2ilfenoxi) ftalocianinato] galio(III) (2) se electrodepositaron con éxito sobre aluminio para retardar la corrosión en solución de ácido clorhídrico 1,0 M. El objetivo de este estudio era comparar la resistencia a la corrosión de las ftalocianinas metalizadas electrodepositadas. La microscopía electrónica de barrido, la difracción de rayos X, la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) y la polarización confirmaron los potenciales de inhibición de la corrosión por aluminio de los complejos 1 y 2. Las técnicas de EIS y polarización mostraron que el complejo 2 se comportaba mejor que el complejo 1, con valores de las medidas de EIS de 82o 1 y 86o 2 en solución de ácido clorhídrico 1,0 M. La importancia de la electrodeposición en las industrias y la escasez de investigaciones sobre el uso de ftalocianinas metalizadas electrodepositadas hicieron necesario este estudio, y los resultados muestran que los recubrimientos formados por electrodeposición de 1 y 2 sobre aluminio redujeron su susceptibilidad al ataque por corrosión.

• Materias:Catálisis Inhibidores químicos Electroquímica Método espectrofotométrico Voltamperometría
• Subjects:Catalysis Chemical inhibitors Electrochemistry Spectrophotometric method Voltammetry
• Palabras claves:Solución de ácido clorhídrico M, ftalocianinas metalizadas, potenciales de inhibición de la corrosión del aluminio, espectroscopia de impedancia electroquímica, EIS, aluminio, electrodeposición, ftalocianinato, estudio, medidas EIS.
• Keywords:M hydrochloric acid solution, metallated phthalocyanines, aluminium corrosion inhibition potentials, electrochemical impedance spectroscopy, EIS, aluminium, electrodeposition, phthalocyaninato, study, EIS measurements