El niobio ha sido considerado para aplicaciones en el sector aeroespacial, pero su uso a altas temperaturas está restringido, debido a la gran afinidad de los metales refractarios con el oxígeno, que da lugar a la formación de capas de óxido y a una disminución de sus resistencias mecánicas. En el presente trabajo, las muestras de Nb fueron sometidas a la Implantación de Iones Basada en Plasma de Nitrógeno a Alta Temperatura (HT-NPBII). El proceso se lleva a cabo a una presión de trabajo entre 3 y 4 mbar y se aplicaron pulsos negativos de alto voltaje de 7 kV/30 μs/300 Hz a las muestras calentadas a 1000°C, con tiempos de tratamiento de 1 h, 4 h y 8 h, respectivamente. Las caracterizaciones microestructurales y mecánicas de las muestras tratadas revelaron la formación de una capa de Nb2N, con 3,0 μm de espesor y el aumento de la dureza superficial desde 225 HV para el material no tratado hasta unos 2498 HV, para las muestras tratadas durante 8 h. Se realizaron ensayos de fluencia a 500°C y con cargas que variaban de 25 a 40 MPa. Los resultados indicaron una disminución de la tasa de fluencia secundaria para las muestras tratadas en comparación con las no tratadas. Este comportamiento puede atribuirse a la formación de una capa de nitruro en la superficie del Nb que actúa como barrera para evitar la difusión de oxígeno en el material en condiciones de alta temperatura.
Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.
Artículo:
Síntesis en un solo paso de nanocompuestos flexibles híbridos de BNC/PPy-CuCl2 por polimerización in situ
Artículo:
Diseño y rendimiento de la base tratada con asfalto antifisuras
Artículo:
Estudio experimental del tubo de refrigeración solar mediante el método de vaciado térmico/de vacío
Artículo:
Penetración del lubricante salino en un contacto Tubo-Mandril en el laminador continuo de soportes de tubos
Video:
Intefase tejido / electrónica - Bozhi Tian, Universidad de Chicago