Resumen

Se ha desarrollado recientemente un sistema de deposición química en fase vapor a presión atmosférica (AP-CVD) para la deposición de una película de vidrio de silicato de boro (BSG) dedicada a la fabricación de células solares. Utilizando el sistema, se investiga la difusión térmica del boro desde la película de BSG y se confirma en términos de estabilidad del proceso para la propiedad de la superficie antes de la deposición del BSG y el espesor del BSG. También se confirma la ausencia de degradación en el tiempo de vida del portador. Se ha desarrollado y demostrado recientemente un simulador de difusión de boro para la optimización de este proceso. Se considera que la difusión térmica de boro a partir de AP-CVD BSG es el método adecuado para la fabricación de células solares de silicio tipo N.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Efecto fotoeléctrico
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Photoelectric effect
• Palabras claves:fabricación de células solares, deposición química de vapor a presión atmosférica, simulador de difusión de boro, vidrio de silicato de boro, difusión térmica de boro, sistema, deposición bsg, película bsg, espesor bsg, cvd bsg
• Keywords:solar cell manufacturing, atmospheric pressure chemical vapor deposition, boron diffusion simulator, boron silicate glass, thermal boron diffusion, system, bsg deposition, bsg film, bsg thickness, cvd bsg