Esta investigación tuvo como objetivo el desarrollo de materiales termocrómicos de película delgada. El material de base utilizado fue vanadio (V) y pentóxido de vanadio (V2O5). Este último se produce mediante el uso de evaporación térmica resistiva y pulverización catódica RF con magnetrón (RF magnetron sputtering) como material singular o en forma de una aleación (tal como los NP de Sn, Ag y Au y óxidos tales como TiO2 y WO3). Asimismo, se realizó un estudio de las propiedades de las películas depositadas a partir de un blanco de tungsteno (W) por medio de pulverización catódica RF con magnetrón.
El estudio de las propiedades de las películas delgadas obtenidas consistió en el análisis de las características eléctricas, ópticas, estructurales y morfológicas de las películas, las cuales fueron depositadas y sometidas a reconocimientos de tres tipos y a tres temperaturas diferentes. Como técnicas de caracterización se usaron espectroscopía de infrarrojo visible y cercano, difracción de rayos X, microscopía de barrido electrónico, perfilometría, conductividad eléctrica en función de la temperatura y termografía.
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