Resumen

Se investigó la mejora de las propiedades ópticas y eléctricas de las películas de TCO depositando diferentes capas de AZO (100 nm), Ag (5 nm)/AZO (95 nm), e ITO (45 nm)/Ag (5 nm)/AZO (50 nm) sobre sustrato n-Si a temperatura ambiente mediante el método de pulverización catódica por magnetrón. El dispositivo ITO/Ag/AZO mejoró eficazmente las propiedades eléctricas y ópticas con una baja resistencia de lámina de 2,847 Ω/cuadrado y un aumento de la relación de rectificación del 455,60% en comparación con los dispositivos AZO y Ag/AZO. La combinación de ITO/Ag/AZO proporcionó los resultados óptimos en todas las propiedades eléctricas y ópticas. Estos resultados mostraron que dentro del rango de espesor optimizado de 100 nm, en comparación con AZO y Ag/AZO, el dispositivo ITO/Ag/AZO mostró la mejora tanto para las propiedades ópticas como eléctricas a temperatura ambiente.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Efecto fotoeléctrico
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Photoelectric effect
• Palabras claves:azo, ito, dispositivo azo, propiedades eléctricas, propiedades ópticas, temperatura ambiente, baja resistencia de lámina, nm)/azo, dispositivos azo, sustrato si
• Keywords:azo, ito, azo device, electrical properties, optical properties, room temperature, low sheet resistance, nm)/azo, azo devices, si substrate