Resumen

Las propiedades únicas de los metamateriales, a saber, su índice de refracción, permitividad o permeabilidad negativos, han acaparado mucha atención recientemente. La investigación sobre estos materiales ha permitido descubrir multitud de aplicaciones que pueden ser útiles para mejorar la nanolitografía óptica. Se ha examinado experimental y teóricamente una selección de materiales para verificar su soporte de plasmones superficiales, o su ausencia, en el espectro DUV mediante el método de reflexión total atenuada (ATR) utilizando la configuración de Kretschmann. En las longitudes de onda DUV, los materiales que antes eran útiles en el UV medio y en longitudes de onda más largas ya no actúan como metamateriales. Los materiales estructurados compuestos por capas alternas de aluminio y óxido de aluminio (Al2O3), así como algunos otros dieléctricos sin absorción, muestran un comportamiento metamaterial, al igual que algunos materiales elementales como el aluminio. Estos materiales elementales y estructurados presentan las mejores propiedades para su uso en aplicaciones nanolitográficas plasmónicas. Por lo tanto, se creó un simulador para examinar combinaciones de materiales y espesores con el fin de generar un metamaterial sintonizable para su uso en el DUV. Se ha propuesto un método para realizar litografía de interferencia plasmónica con este metamaterial, con cálculos que muestran el potencial para una resolución de imagen de medio paso de 25 nm.

• Materias:Propagación de ondas Rayo láser Onda electromagnética Óptica Fibra óptica Redes ópticas
• Subjects:Wave propagation Lasers Electromagnetic waves Optics Optical fibres Optical networks
• Palabras claves:materiales, reflexión total atenuada, mucha atención reciente, índice de refracción negativo, resolución de imágenes de paso, litografía de interferencia plasmónica, aplicaciones nanolitográficas plasmónicas, aluminio, metamateriales, método
• Keywords:materials, attenuated total reflection, much recent attention, negative refractive index, pitch imaging resolution, plasmonic interference lithography, plasmonic nanolithographic applications, aluminum, metamaterials, method