Resumen

La nanoimpresión UV por pasos y repeticiones para la fabricación de nanoestructuras a gran escala bajo presión atmosférica se realizó utilizando resina fotocurable de alta viscosidad y un sistema de nanoimpresión sencillo. En la nanoimpresión UV por pasos y repeticiones a presión atmosférica con resina de baja viscosidad, la fabricación de nanoestructuras a gran escala es muy difícil, debido a los defectos de burbuja y a la falta de uniformidad de la capa residual. Para minimizar los defectos de burbuja y la falta de uniformidad de la capa residual, nos centramos en los efectos amortiguadores de la viscosidad de la resina fotocurable. Se demostró con éxito la fabricación de 165 matrices en un área de 130×130 mm2 sobre un sustrato de silicio de 8 pulgadas mediante nanoimpresión UV por pasos y repeticiones a presión atmosférica utilizando resina fotocurable de alta viscosidad. Se formaron nanoestructuras con patrones de anchura y espaciado de 80 nm a 3 μm y 200 nm de profundidad utilizando un molde de cuarzo. No se observaron defectos de burbuja, y la uniformidad de la capa residual fue de 30 nm ±10%. Este estudio informa sobre la nanoimpresión UV simple de paso y repetición bajo presión atmosférica utilizando resina fotocurable de alta viscosidad, como un método muy ampliamente disponible para la producción en masa a gran escala de nanoestructuras.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Photocatalysis Nanoparticles Nanomaterials
• Palabras claves:nanoimpresión uv repetida, presión atmosférica, resina fotocurable, viscosidad, defectos de burbuja, fabricación de nanoestructuras, capa residual, viscosidad de la resina fotocurable, uniformidad de la capa residual, producción en serie a escala
• Keywords:repeat uv nanoimprinting, atmospheric pressure, photocurable resin, viscosity, bubble defects, nanostructure fabrication, residual layer, photocurable resin viscosity, residual layer uniformity, scale mass production