Biblioteca76.964 documentos en línea

Artículo

Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi MethodOptimización de los Parámetros de Procesamiento de Deposición de Plasma de Arco Catódico de la Película de ZnO Utilizando el Método Taguchi Relativo a los Grises

Resumen

Depositamos películas de ZnO sin dopar sobre el sustrato de vidrio a una temperatura baja (

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento