Resumen

Esta contribución trata de la evaluación experimental y computacional del deflector de deposición que es transparente a los campos magnéticos de radiofrecuencia (RF) generados por una antena externa en una fuente de plasma acoplado inductivamente (ICP) pero opaco a la deposición del metal sobre una pared dieléctrica en un sistema de deposición física en fase vapor ionizado (IPVD). Se discuten varios aspectos de ingeniería relacionados con el deflector de deposición. Entre los muchos requisitos se centra en la estructura específica de las ranuras y el análisis para minimizar la deposición en el deflector (utilizamos un modelo de cuerda para simular la evolución del perfil) y la deposición a través del DB en los componentes dieléctricos de la fuente ICP. La transparencia del deflector a los campos magnéticos de RF se calcula utilizando un solucionador de campos electromagnéticos tridimensional (3D). Se utiliza un modelo simple de vaina bidimensional para comprender las interacciones del plasma con la estructura de ranuras de la DB. Se discuten brevemente el rendimiento y los posibles fallos del dispositivo.

• Materias:Simulación por computador Hidrodinámica Efecto térmico Cálculos de flujo Controlador de temperatura Simulación por computadora
• Subjects:Computerized simulation Hydrodynamics Thermal effect Flow calculations Temperature controller Computer simulation
• Palabras claves:deposición, deflector de deposición, campos magnéticos, deposición física de vapor ionizado, estructura de ranura DB, diversos aspectos de ingeniería, modelo de vaina dimensional, RF, deflector, fuente ICP
• Keywords:deposition, deposition baffle, magnetic fields, ionized physical vapor deposition, DB slot structure, Various engineering aspects, dimensional sheath model, RF, baffle, ICP source