Este estudio presenta la síntesis y caracterización de recubrimientos duros de TiN como material de referencia candidato para la metrología de superficies en química. Los recubrimientos de TiN se cultivaron sobre una oblea de silicio con orientación (111) mediante pulverización catódica reactiva por magnetrón en corriente continua. La difracción de rayos X confirma que la fase de difracción de los recubrimientos de TiN es policristalina, la microscopía electrónica demuestra que los recubrimientos de TiN presentan granos de forma piramidal que van desde la escala submicrométrica a la nanométrica y con un grosor medio de 666 nm. Según los resultados de micro Raman, la presencia de modos fonónicos LO confirma que los recubrimientos de TiN son de naturaleza cristalina y no se detectan impurezas. Las propiedades mecánicas a nanoescala se evalúan mediante microscopía atómica de fuerza acústica con seguimiento de resonancia. La composición química del TiN revela una relación atómica cercana a 1:1. Se utiliza el ANOVA para evaluar la homogeneidad del TiN mediante una prueba de homogeneidad conforme a la Guía ISO 35:2017, mientras que, en lo que respecta a la composición química del Ti, la prueba de Fisher demuestra que el lote puede considerarse homogéneo.
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