Resumen

Hemos investigado las transformaciones estructurales y de fase en películas de Ti de 200-300 nm de espesor tratadas con vapor de agua, mantenidas a temperatura ambiente, mediante la inyección de vapor de agua en plasma de radiofrecuencia (RF) a diferentes potencias de procesamiento. Se utilizó la microscopía electrónica de barrido (SEM) combinada con la microscopía óptica y el análisis de la nanotopografía de superficie para ver las huellas de las capas de agua adsorbidas y para detectar las protuberancias o ampollas aparecidas en la superficie de las muestras tratadas. Se han observado superficies rugosas con agujeros de diferente tamaño (5-20 μm) en todo el espesor de la película. Los resultados de la difracción de rayos X muestran que la tasa de oxidación de la película de Ti aumenta drásticamente en presencia de agua adsorbida en la capa hidrofílica. Se supone que el factor definitorio que controla la cinética de oxidación es la formación de radicales hidroxilo.

• Materias:Sistema cuántico Masa (Física) fotoelectrones Iones Reacciones Nucleares
• Subjects:Quantum system Mass (Physical) photoelectrons Ions Nuclear Reactions
• Palabras claves:capa de agua adsorbida, tamaño del orificio, grosor de la película completa, formación de radicales hidroxilo, análisis de nanotopografía de superficie, microscopía electrónica de barrido, resultados de difracción de rayos, película gruesa de ti, tasa de ti, diferentes potencias de procesamiento
• Keywords:adsorbed water layer, size of hole, entire film thickness, hydroxyl radical formation, surface nanotopography analysis, scanning electron microscopy, ray diffraction results, thick ti film, rate of ti, different processing power