Desvelando la correlación directa entre el grafeno crecido por CVD y la plantilla de crecimiento

Se sabe que la deposición química de vapor (CVD) produce láminas de grafeno continuas y de gran superficie con propiedades físicas decentes. En el proceso de CVD, se suelen utilizar sustratos metálicos catalíticos como plantilla de crecimiento, y el cobre se ha adoptado como plataforma material representativa debido a su baja solubilidad en carbono y a la capacidad de crecimiento de grafeno en monocapa resultante. Para generalizar las aplicaciones industriales del grafeno, es esencial conseguir una alta calidad. Varios factores afectan a la calidad del grafeno obtenido por CVD, como la presión, la temperatura, los precursores de carbono o la plantilla de crecimiento. En este trabajo, analizamos en detalle la relación directa entre el sustrato de crecimiento metálico (cobre) y las propiedades generales del grafeno obtenido por CVD. La morfología superficial del sustrato de cobre se moduló mediante tratamientos químicos sencillos, y se analizó su efecto sobre las propiedades físicas, ópticas y eléctricas del grafeno. Basándonos en estos resultados, proponemos una ruta de síntesis sencilla para producir láminas de grafeno monocapa, continuas y de alta calidad, que puede facilitar la comercialización del grafeno CVD en la realidad.

Autores: Junghyun, Lee; Jihyung, Seo; Sungchul, Jung; Kibog, Park; Hyesung, Park