Cookies y Privacidad
Usamos cookies propias y de terceros para mejorar la experiencia de nuestros usuarios, analizar el tráfico del sitio y personalizar contenido. Si continúas navegando, asumimos que aceptas su uso. Para más información, consulta nuestra Política de Cookies
La localización de pequeñas anomalías a través del método de muestreo de ortogonalidad a partir de parámetros de dispersión
Investigamos la aplicación del método de muestreo de ortogonalidad (OSM) en la imagen de microondas para una rápida localización de pequeñas anomalías a partir de parámetros de dispersión medidos. Para este propósito, diseñamos una función indicadora de OSM definida en un espacio de Lebesgue para probar la relación de ortogonalidad entre la función de Hankel y los parámetros de dispersión. Esto se basa en una aplicación de la aproximación de Born y la fórmula de la ecuación integral para los parámetros de dispersión en presencia de una pequeña anomalía. Luego demostramos que la función indicadora consiste en una combinación de una serie infinita de funciones de Bessel de orden entero, una configuración de antena y propiedades del material. Se presentan resultados de simulación con datos sintéticos para mostrar la viabilidad y limitaciones del OSM diseñado.
Autores: Chae, Seongje; Ahn, Chi Young; Park, Won-Kwang
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2020
Disponible con Suscripción Virtualpro
Artículos
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 9
Citaciones: Sin citaciones
Este documento es un artículo elaborado por Seongje Chae, Chi Young Ahn y Won-Kwang Park para la revista Electronics, Vol. 9, Núm. 7. Publicación de MDPI. Contacto: electronics@mdpi.com
Investigamos la aplicación del método de muestreo de ortogonalidad (OSM) en la imagen de microondas para una rápida localización de pequeñas anomalías a partir de parámetros de dispersión medidos. Para este propósito, diseñamos una función indicadora de OSM definida en un espacio de Lebesgue para probar la relación de ortogonalidad entre la función de Hankel y los parámetros de dispersión. Esto se basa en una aplicación de la aproximación de Born y la fórmula de la ecuación integral para los parámetros de dispersión en presencia de una pequeña anomalía. Luego demostramos que la función indicadora consiste en una combinación de una serie infinita de funciones de Bessel de orden entero, una configuración de antena y propiedades del material. Se presentan resultados de simulación con datos sintéticos para mostrar la viabilidad y limitaciones del OSM diseñado.
Descripción
Investigamos la aplicación del método de muestreo de ortogonalidad (OSM) en la imagen de microondas para una rápida localización de pequeñas anomalías a partir de parámetros de dispersión medidos. Para este propósito, diseñamos una función indicadora de OSM definida en un espacio de Lebesgue para probar la relación de ortogonalidad entre la función de Hankel y los parámetros de dispersión. Esto se basa en una aplicación de la aproximación de Born y la fórmula de la ecuación integral para los parámetros de dispersión en presencia de una pequeña anomalía. Luego demostramos que la función indicadora consiste en una combinación de una serie infinita de funciones de Bessel de orden entero, una configuración de antena y propiedades del material. Se presentan resultados de simulación con datos sintéticos para mostrar la viabilidad y limitaciones del OSM diseñado.