Los largos intervalos de repetición de pulsos de 100 a 500 ms de un láser excimer ArF de 193 nm aumentaron con éxito la altura de la micro-/nano-hinchazón fotocatalítica de la goma de silicona, observada con un microscopio electrónico de barrido. El efecto del intervalo se observó a pesar del calentamiento de la goma de silicona a 80 grados C durante la irradiación con láser. La altura de la micro-/nano-hinchazón se saturó cuando el número de pulsos del láser fue de 300 o más, aunque cada una de las alturas saturadas de la micro-/nano-hinchazón formadas por varios intervalos de repetición de pulsos era diferente. Así, un segundo láser excimer ArF irradiaba la micro-/nano-hinchazón en crecimiento antes de la saturación; la altura saturada de la micro-/nano-hinchazón en crecimiento podía ser controlada por el intervalo de repetición de pulsos del segundo láser excimer ArF. Para examinar el proceso de micro-/nano-hinchazón, se observó una etapa temprana del crecimiento utilizando un microscopio de fuerza atómica; se reconoció claramente una estructura de dentado de la micro-/nano-hinchazón. Además, se podría formar una estructura en forma de aguja de la micro-/nano-hinchazón cuando las microsferas de vidrio de sílice estaban alineadas de manera dispersa.