Los silicatos recubiertos de níquel se depositaron electroquímicamente a partir de soluciones de baño ácidas. Se utilizó citrato como ligando para estabilizar los iones de níquel (II) en la solución de recubrimiento. El silicato, montmorillonita, se exfolió por agitación en solución acuosa durante 24 horas. Se analizó el potencial zeta, el tamaño de partícula, la viscosidad y la conductividad de las soluciones de revestimiento para investigar los efectos de la composición a distintos pH. Las partículas de la solución a pH 2,5 (-22,2 mV) y pH 3,0 (-21,9 mV) eran más estables que a pH 1,6 (-10,1 mV), como muestra el análisis del potencial zeta de la solución de recubrimiento de níquel-citrato-montmorillonita. El Ecorr de las películas osciló entre -0,32 y -0,39 V con pH variable de 1,6 a 3,0. Las películas se sumergieron en NaCl al 3,5% y se controló el potencial de circuito abierto durante un mes. Los recubrimientos depositados a pH 3,0 fueron estables 13 días más en la solución salina que los otros recubrimientos. La difracción de rayos X mostró un cambio en la relación (111)/(200) de los recubrimientos a los distintos pH. Los resultados de la microscopía electrónica de barrido y de la dureza también confirman que la electrodeposición de níquel-montmorillonita a pH 3,0 (234 GPa) mejoró la dureza y la morfología en comparación con pH 2,5 (174 GPa) y pH 1,6 (147 GPa).