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El análisis de interacción basado en ómicas revela la interacción de contaminantes químicos (ozono) y estresores de fotorradiación (UVSSR) en el daño cutáneo

Autores: Zhang, Hong; Dong, Yiying; Xiao, Xue; Cui, Xiao; Gu, Xuelan

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2025

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Acceso abierto

Artículo científico


Categoría

Ciencias Naturales y Subdisciplinas

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 5

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Mientras que el daño en la piel causado por un único estresor ambiental, particularmente la radiación ultravioleta, está bien entendido, se sabe mucho menos sobre la exposición a múltiples estresores, especialmente la interacción de múltiples estresores, lo cual es crucial para el desarrollo de tecnologías de protección de la piel. En este estudio, por primera vez, investigamos los efectos combinados de UVSSR y ozono en un modelo de piel pigmentada en 3D y determinamos los genes impulsores subyacentes asociados con el efecto aditivo del ozono en el daño cutáneo inducido por UVSSR utilizando un análisis de marco de interacción basado en ómicas, proponiendo los procesos biológicos vitales que contribuyen al efecto de interacción. Los resultados destacan la importancia de una protección adecuada contra UV y ozono, proporcionando una base científica para el desarrollo de productos de protector solar.

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