Los enfoques tradicionales para el desarrollo de circuitos integrados implican el uso y/o la fabricación de materiales tóxicos que tienen un impacto medioambiental potencial. Se ha llevado a cabo una amplia investigación para diseñar polímeros sintéticos inocuos para el medio ambiente que contengan bases de ácidos nucleicos, que puedan utilizarse para mejorar las tecnologías de fotorresistencia. Los fotopolímeros de 1-(4-vinilbencil)timina (VBT) y vinilfenil sufonato (VPS), solubles en agua y respetuosos con el medio ambiente, experimentan una reacción de fotodimerización cuando se exponen a niveles bajos de irradiación ultravioleta, lo que conduce a la inmovilización del copolímero en diversos sustratos. Se aplicaron el diseño de Plackett-Burman (PBD) y el diseño compuesto central (CCD) para identificar los factores significativos que influyen en los procesos de reticulación del polímero y adsorción del colorante, que son relevantes en la fabricación de películas de copolímero para su uso potencial como fotorresistentes. Los resultados de PBD asignaron una señal de absorción máxima de 0,67, mientras que las condiciones óptimas obtenidas en este experimento siguiendo las predicciones del método CCD proporcionaron una respuesta de 0,83 ± 0,03, siendo una base sólida para el uso posterior de esta metodología en la producción de potenciales fotorresistencias. El efecto del pH fue relevante para concentraciones bajas pero no significativo para concentraciones más altas. Hasta donde sabemos, este es el primer informe en el que se aplican diseños experimentales estadísticos para optimizar la reticulación de polímeros basados en timina.