La transferencia de grafeno, cultivado por deposición de vapor químico (CVD), a un sustrato de elección, generalmente implica la deposición de una capa polimérica (por ejemplo, polimetilmetacrilato (PMMA) o polidimetilsiloxano, PDMS). Estos polímeros son bastante difíciles de eliminar sin dejar algunos residuos. Un método para mejorar la transferencia de grafeno es recubrir el grafeno con una delgada capa de óxido protector, seguida de la deposición de una capa polimérica muy delgada sobre la capa de óxido (mucho más delgada que el grosor habitual), seguida de un método de eliminación polimérica más agresivo, dejando así el grafeno intacto. Al mismo tiempo, tener una capa de óxido sobre el grafeno puede servir para aplicaciones, como transistores en canal o dispositivos de detección. Aquí, estudiamos la transferencia de grafeno con una delgada capa de óxido protector cultivada por deposición de capas atómicas (ALD). Seguimos el proceso de transferencia desde la etapa de crecimiento del grafeno a través de la deposición de óxido hasta su finalización. Informamos sobre el proceso de crecimiento de nucleación de óxidos en grafeno, su tensión resultante y su transmisión óptica.